Artigo · Revista · 2007

Intrinsic gettering of nickel impuriy deep levels in silicon substrate

Ife Journal of Science

Citações: 0de outros trabalhos
Impacto normalizado por área: 0,001,00 é a média mundial para a sua área e o seu ano
Na sua área: Percentil 8pelas citações, face aos trabalhos da sua área e do seu ano
Autores: 2de 2 instituições

Autores

2 autores de 2 instituições em 1 país

G.A AdegboyegaPrimeiro autor
- Adekunle Ajasin University (NG)
- Obafemi Awolowo University (NG)
tal como impresso: G A Adegboyega
O. OsasonaAutor sénior
tal como impresso: O Osasona