Article · Revue · 1981

Study of the growth kinetics of Ni2Si using a sheet resistance method

Journal of Physics D Applied Physics

Citations: 2par d’autres travaux
Impact normalisé par discipline: 0,261,00 correspond à la moyenne mondiale pour sa discipline et son année
Dans sa discipline: 47e centileselon les citations, face aux travaux de sa discipline et de son année
Auteurs: 1de 1 institution

Auteurs

1 auteur

E. N. MgbenuPremier auteurAuteur correspondant
- University of Ibadan (NG)
tel qu’imprimé : E N Mgbenu